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思迅軟件（13255586751,18562765393）擁有成熟的市場(chǎng)銷(xiāo)售渠道及完善的技術(shù)服務(wù)網(wǎng)絡(luò)，為客戶(hù)提供專(zhuān)業(yè)化、特色化的管理咨詢(xún)、項(xiàng)目實(shí)施、系統(tǒng)維護(hù)、專(zhuān)業(yè)培訓(xùn)、優(yōu)化升級(jí)等全

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1360642638擴(kuò)散爐主要滿(mǎn)足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等

擴(kuò)散爐主要滿(mǎn)足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工的硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微

　　氧化擴(kuò)散爐性能特點(diǎn)：　　◆具有可編程的升、降溫功能　　◆采用濾波器、屏蔽板等裝置，有效解決電網(wǎng)、磁場(chǎng)的干擾　　◆windowsxp全中文視窗操作系統(tǒng)，可儲(chǔ)存1000條曲線，每條

鏈?zhǔn)綘t主要用于集成電路、電力電子器件，如橋式整流器、二極管、三極管等在氫氣、氮?dú)狻⒒驓涞旌蠚怏w的保護(hù)下進(jìn)行焊接、封裝、烘干、還原、退火等。主要技術(shù)指標(biāo)：◆工作溫度：200℃—11

真空燒結(jié)爐主要用于電子器件、可控硅模塊、熱敏電阻、磁性材料、陶瓷金屬化行業(yè)在真空環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)、封裝、退火、焊接等工藝。真空爐技術(shù)指標(biāo)： 真空室工位數(shù)：1-3位 

真空燒結(jié)爐主要用于電子器件、可控硅模塊、熱敏電阻、磁性材料、陶瓷金屬化行業(yè)在真空環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)、封裝、退火、焊接等工藝。真空爐技術(shù)指標(biāo)： 真空室工位數(shù)：1-3位 

　　井式/立式真空爐主要用于半導(dǎo)體器件燒結(jié)、封焊，太陽(yáng)能電池片烘干、焊接及金屬化管殼等氣密性封裝，玻璃容器的燒結(jié)及各種零件在氫氮保護(hù)下進(jìn)行的工藝?！　【秸婵諣t主要技術(shù)參數(shù)　　真空

LED專(zhuān)用爐主要滿(mǎn)足LED芯片制造行業(yè)，對(duì)圓片及殘片進(jìn)行合金、退火、擴(kuò)散、氧化等工藝。主要性能指標(biāo)：外型形式：臥式1—4管結(jié)構(gòu)，水平爐管工作溫度：200℃—1100℃恒溫區(qū)長(zhǎng)度：≥

滿(mǎn)足半導(dǎo)體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。CVD系統(tǒng)性能特點(diǎn)：結(jié)

滿(mǎn)足半導(dǎo)體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。CVD系統(tǒng)性能特點(diǎn)：結(jié)

太陽(yáng)能擴(kuò)散爐主要滿(mǎn)足光伏電池生產(chǎn)線對(duì)125mm×125mm、156mm×156mm多晶硅、單晶硅硅片進(jìn)行擴(kuò)散工藝。目前有第二代閉管擴(kuò)散爐和第三代軟著陸擴(kuò)散爐。 技術(shù)指標(biāo)：

網(wǎng)帶式快速燒結(jié)爐，是針對(duì)太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線專(zhuān)門(mén)開(kāi)發(fā)的一種集燒結(jié)、烘干于一體的燒結(jié)爐。利用紅外技術(shù)和高品質(zhì)爐膛材料，提高設(shè)備的熱效率；采用先進(jìn)的溫度控制技術(shù)，保證溫度控制的度。技術(shù)指標(biāo)

氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬化等在氫氣氣氛保護(hù)下進(jìn)行還原、退火、合金等工藝，也可以進(jìn)行氧化工藝。技術(shù)指標(biāo)：工作溫度：200—1300℃ 

高純材料提純?cè)O(shè)備主要滿(mǎn)足高純砷等新材料制造行業(yè)，對(duì)材料進(jìn)氛保護(hù)下的燒結(jié)、升華、還原、精餾等工藝。主要性能指標(biāo)： 外型形式：臥式結(jié)構(gòu)，水平爐管工作溫度：200℃—1100℃

　　控制系統(tǒng)類(lèi)產(chǎn)品：　　溫控系統(tǒng)、氣源柜、控制柜、溫控器、溫控儀　　上述系統(tǒng)可應(yīng)用于進(jìn)口設(shè)備改造，翻新等，采用中文視窗操作系統(tǒng)對(duì)爐溫、整個(gè)工藝流程進(jìn)行自動(dòng)控制，并能記錄管理歷史數(shù)據(jù)

可完全代替進(jìn)口爐體，優(yōu)質(zhì)加熱爐絲，進(jìn)口保溫材料，采用國(guó)外先進(jìn)加工工藝，爐體可長(zhǎng)期使用在高溫下，處理12英寸以下硅片，工作溫度200—1300℃。技術(shù)指標(biāo)：加熱爐絲：瑞典康泰爾高溫爐

Softcollar為進(jìn)口石英纖維棉采用德國(guó)加工工藝制成，用于擴(kuò)散爐和PECVD設(shè)備中爐體和石英管之間的隔熱保溫，解決了以往用保溫棉存在的兩大問(wèn)題：一是保溫棉長(zhǎng)時(shí)間高溫下出現(xiàn)粉化脫

擴(kuò)散爐主要滿(mǎn)足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微控

擴(kuò)散爐主要滿(mǎn)足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工的硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微

氧化擴(kuò)散爐性能特點(diǎn)：◆具有可編程的升、降溫功能◆采用濾波器、屏蔽板等裝置，有效解決電網(wǎng)、磁場(chǎng)的干擾◆windowsxp全中文視窗操作系統(tǒng)，可儲(chǔ)存1000條曲線，每條曲線設(shè)置30步◆

鏈?zhǔn)綘t主要用于集成電路、電力電子器件，如橋式整流器、二極管、三極管等在氫氣、氮?dú)?、或氫氮混合氣體的保護(hù)下進(jìn)行焊接、封裝、烘干、還原、退火等。主要技術(shù)指標(biāo)：◆工作溫度：200℃—11

真空爐用于真空條件下集成電路、電力電子器件生產(chǎn)線對(duì)所生產(chǎn)產(chǎn)品進(jìn)行燒結(jié)、合金、退火、焊接等工藝處理。具有控溫精度高，降溫速度快等特點(diǎn)。真空爐技術(shù)指標(biāo)：石英管真空室：1—3室真空度：1

真空燒結(jié)爐主要用于電子器件、可控硅模塊、熱敏電阻、磁性材料、陶瓷金屬化行業(yè)在真空環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)、封裝、退火、焊接等工藝。真空爐技術(shù)指標(biāo)： 真空室工位數(shù)：1-3位 

井式/立式真空爐主要用于半導(dǎo)體器件燒結(jié)、封焊，太陽(yáng)能電池片烘干、焊接及金屬化管殼等氣密性封裝，玻璃容器的燒結(jié)及各種零件在氫氮保護(hù)下進(jìn)行的工藝。井式真空爐主要技術(shù)參數(shù) 真空

LED專(zhuān)用爐主要滿(mǎn)足LED芯片制造行業(yè)，對(duì)圓片及殘片進(jìn)行合金、退火、擴(kuò)散、氧化等工藝。主要性能指標(biāo)：外型形式：臥式1—4管結(jié)構(gòu)，水平爐管工作溫度：200℃—1100℃恒溫區(qū)長(zhǎng)度：≥

滿(mǎn)足半導(dǎo)體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。CVD系統(tǒng)性能特點(diǎn)：結(jié)

滿(mǎn)足半導(dǎo)體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。CVD系統(tǒng)性能特點(diǎn)：結(jié)

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網(wǎng)帶式快速燒結(jié)爐，是針對(duì)太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線專(zhuān)門(mén)開(kāi)發(fā)的一種集燒結(jié)、烘干于一體的燒結(jié)爐。利用紅外技術(shù)和高品質(zhì)爐膛材料，提高設(shè)備的熱效率；采用先進(jìn)的溫度控制技術(shù)，保證溫度控制的度。技術(shù)指標(biāo)

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滿(mǎn)足半導(dǎo)體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。CVD系統(tǒng)性能特點(diǎn)：結(jié)

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真空爐用于真空條件下集成電路、電力電子器件生產(chǎn)線對(duì)所生產(chǎn)產(chǎn)品進(jìn)行燒結(jié)、合金、退火、焊接等工藝處理。具有控溫精度高，降溫速度快等特點(diǎn)。真空爐技術(shù)指標(biāo)：石英管真空室：1—3室真空度：1

真空燒結(jié)爐主要用于電子器件、可控硅模塊、熱敏電阻、磁性材料、陶瓷金屬化行業(yè)在真空環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)、封裝、退火、焊接等工藝。真空爐技術(shù)指標(biāo)： 真空室工位數(shù)：1-3位 

井式/立式真空爐主要用于半導(dǎo)體器件燒結(jié)、封焊，太陽(yáng)能電池片烘干、焊接及金屬化管殼等氣密性封裝，玻璃容器的燒結(jié)及各種零件在氫氮保護(hù)下進(jìn)行的工藝。井式真空爐主要技術(shù)參數(shù) 真空

LED專(zhuān)用爐主要滿(mǎn)足LED芯片制造行業(yè)，對(duì)圓片及殘片進(jìn)行合金、退火、擴(kuò)散、氧化等工藝。主要性能指標(biāo)：外型形式：臥式1—4管結(jié)構(gòu)，水平爐管工作溫度：200℃—1100℃恒溫區(qū)長(zhǎng)度：≥

滿(mǎn)足半導(dǎo)體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。CVD系統(tǒng)性能特點(diǎn)：結(jié)

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網(wǎng)帶式快速燒結(jié)爐，是針對(duì)太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線專(zhuān)門(mén)開(kāi)發(fā)的一種集燒結(jié)、烘干于一體的燒結(jié)爐。利用紅外技術(shù)和高品質(zhì)爐膛材料，提高設(shè)備的熱效率；采用先進(jìn)的溫度控制技術(shù)，保證溫度控制的度。技術(shù)指標(biāo)

氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬化等在氫氣氣氛保護(hù)下進(jìn)行還原、退火、合金等工藝，也可以進(jìn)行氧化工藝。技術(shù)指標(biāo)：工作溫度：200—1300℃ 

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可完全代替進(jìn)口爐體，優(yōu)質(zhì)加熱爐絲，進(jìn)口保溫材料，采用國(guó)外先進(jìn)加工工藝，爐體可長(zhǎng)期使用在高溫下，處理12英寸以下硅片，工作溫度200—1300℃。技術(shù)指標(biāo)：加熱爐絲：瑞典康泰爾高溫爐

Softcollar為進(jìn)口石英纖維棉采用德國(guó)加工工藝制成，用于擴(kuò)散爐和PECVD設(shè)備中爐體和石英管之間的隔熱保溫，解決了以往用保溫棉存在的兩大問(wèn)題：一是保溫棉長(zhǎng)時(shí)間高溫下出現(xiàn)粉化脫

擴(kuò)散爐主要滿(mǎn)足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微控

擴(kuò)散爐主要滿(mǎn)足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工的硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微

氧化擴(kuò)散爐性能特點(diǎn)：◆具有可編程的升、降溫功能◆采用濾波器、屏蔽板等裝置，有效解決電網(wǎng)、磁場(chǎng)的干擾◆windowsxp全中文視窗操作系統(tǒng)，可儲(chǔ)存1000條曲線，每條曲線設(shè)置30步◆

鏈?zhǔn)綘t主要用于集成電路、電力電子器件，如橋式整流器、二極管、三極管等在氫氣、氮?dú)狻⒒驓涞旌蠚怏w的保護(hù)下進(jìn)行焊接、封裝、烘干、還原、退火等。主要技術(shù)指標(biāo)：◆工作溫度：200℃—11

真空爐用于真空條件下集成電路、電力電子器件生產(chǎn)線對(duì)所生產(chǎn)產(chǎn)品進(jìn)行燒結(jié)、合金、退火、焊接等工藝處理。具有控溫精度高，降溫速度快等特點(diǎn)。真空爐技術(shù)指標(biāo)：石英管真空室：1—3室真空度：1

真空燒結(jié)爐主要用于電子器件、可控硅模塊、熱敏電阻、磁性材料、陶瓷金屬化行業(yè)在真空環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)、封裝、退火、焊接等工藝。真空爐技術(shù)指標(biāo)： 真空室工位數(shù)：1-3位 

井式/立式真空爐主要用于半導(dǎo)體器件燒結(jié)、封焊，太陽(yáng)能電池片烘干、焊接及金屬化管殼等氣密性封裝，玻璃容器的燒結(jié)及各種零件在氫氮保護(hù)下進(jìn)行的工藝。井式真空爐主要技術(shù)參數(shù) 真空

LED專(zhuān)用爐主要滿(mǎn)足LED芯片制造行業(yè)，對(duì)圓片及殘片進(jìn)行合金、退火、擴(kuò)散、氧化等工藝。主要性能指標(biāo)：外型形式：臥式1—4管結(jié)構(gòu)，水平爐管工作溫度：200℃—1100℃恒溫區(qū)長(zhǎng)度：≥

滿(mǎn)足半導(dǎo)體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。CVD系統(tǒng)性能特點(diǎn)：結(jié)

滿(mǎn)足半導(dǎo)體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。CVD系統(tǒng)性能特點(diǎn)：結(jié)

太陽(yáng)能擴(kuò)散爐主要滿(mǎn)足光伏電池生產(chǎn)線對(duì)125mm×125mm、156mm×156mm多晶硅、單晶硅硅片進(jìn)行擴(kuò)散工藝。目前有第二代閉管擴(kuò)散爐和第三代軟著陸擴(kuò)散爐。 技術(shù)指標(biāo)：

網(wǎng)帶式快速燒結(jié)爐，是針對(duì)太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線專(zhuān)門(mén)開(kāi)發(fā)的一種集燒結(jié)、烘干于一體的燒結(jié)爐。利用紅外技術(shù)和高品質(zhì)爐膛材料，提高設(shè)備的熱效率；采用先進(jìn)的溫度控制技術(shù)，保證溫度控制的度。技術(shù)指標(biāo)

氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬化等在氫氣氣氛保護(hù)下進(jìn)行還原、退火、合金等工藝，也可以進(jìn)行氧化工藝。技術(shù)指標(biāo)：工作溫度：200—1300℃ 

高純材料提純?cè)O(shè)備主要滿(mǎn)足高純砷等新材料制造行業(yè)，對(duì)材料進(jìn)氛保護(hù)下的燒結(jié)、升華、還原、精餾等工藝。主要性能指標(biāo)： 外型形式：臥式結(jié)構(gòu)，水平爐管工作溫度：200℃—1100℃

SSD-系列雙軸剪切式破碎機(jī)，采用“單電機(jī)+減速機(jī)”驅(qū)動(dòng)，通過(guò)齒輪分速驅(qū)動(dòng)兩套刀軸同時(shí)運(yùn)轉(zhuǎn)，實(shí)現(xiàn)物料的剪切和撕碎，WLD系列是輕載荷剪切式破碎機(jī)，外觀體型緊湊，占地面積小，其核心力

  碼垛機(jī)器人是一種自動(dòng)化設(shè)備，通常用于將物料（如包裝貨物）堆疊成一定形狀的單元，如托盤(pán)上的貨堆。碼垛機(jī)器人的應(yīng)用非常廣泛，包括制造業(yè)、物流業(yè)、食品加工等行業(yè)。

許昌市水冷電機(jī)殼風(fēng)冷電機(jī)殼防水防塵風(fēng)冷電機(jī)殼由于傳統(tǒng)的風(fēng)冷電機(jī)殼加工過(guò)程風(fēng)冷電機(jī)殼與端蓋的同心度較差,造成鋁合金機(jī)殼電機(jī)運(yùn)行噪聲較大。根據(jù)風(fēng)冷電機(jī)殼的加工方式,設(shè)計(jì)了一種風(fēng)冷電機(jī)殼

濮陽(yáng)市電視支架型材|過(guò)濾器型材質(zhì)量輕鋁型材按用途1.建筑鋁型材（分為門(mén)窗和幕墻二種）.2.散熱器鋁型材。3.一般工業(yè)鋁型材：主要用于工業(yè)生產(chǎn)制造用的，如自動(dòng)化機(jī)械設(shè)備、封罩的骨架以

焦作市鋁型擠壓加工、鋁型材擠壓批發(fā)鋁合金電機(jī)殼的材質(zhì)分類(lèi)主要有以下三種。鎂合金：鋁鎂合金一般主要元素是鋁，再摻入少量的鎂或是其它的金屬材料來(lái)加強(qiáng)其硬度。因本身就是金屬，其導(dǎo)熱性能和

新鄉(xiāng)市工業(yè)鋁型材擠壓成型、鋁型材框架定做水冷電機(jī)殼：擠壓水冷鋁合金電機(jī)殼其主要特點(diǎn)具有良好的散熱性，采用水循環(huán)方式，連續(xù)工作多個(gè)小時(shí)下溫度都能保持特定溫度，利于汽車(chē)電機(jī)散熱。其電機(jī)

鶴壁市螺旋水套電機(jī)殼鋁型材易成型伺服電機(jī)外殼使用相關(guān)注意事項(xiàng)伺服電機(jī)可應(yīng)用在是火花機(jī)、機(jī)械手、的機(jī)器等?？赏瑫r(shí)配置高分析度的標(biāo)準(zhǔn)編碼器及測(cè)速器，更能加配減速箱、令機(jī)械設(shè)備帶來(lái)可靠的

安陽(yáng)市鋁型材電機(jī)殼/鋁型材框架節(jié)能環(huán)保電機(jī)殼在電機(jī)中主要起到兩個(gè)主要的作用：  1、技術(shù)的作用。技術(shù)的作用就指的有很多了，先因?yàn)殡姍C(jī)在其用途不同，各種場(chǎng)景要求都

電機(jī)轉(zhuǎn)子平頂山螺旋水套電機(jī)殼散熱性能好電機(jī)殼主要是用來(lái)保護(hù)電機(jī)，所以電機(jī)殼的好壞很重要，在平時(shí)使用時(shí)我們一定要好好保養(yǎng)1、電機(jī)殼功率選擇電機(jī)殼額定功率的選擇是一個(gè)很復(fù)雜的問(wèn)題。負(fù)載

洛陽(yáng)市新能源汽車(chē)電機(jī)殼電機(jī)轉(zhuǎn)子強(qiáng)度高風(fēng)冷電機(jī)殼由于傳統(tǒng)的風(fēng)冷電機(jī)殼加工過(guò)程風(fēng)冷電機(jī)殼與端蓋的同心度較差,造成鋁合金機(jī)殼電機(jī)運(yùn)行噪聲較大。根據(jù)風(fēng)冷電機(jī)殼的加工方式,設(shè)計(jì)了一種風(fēng)冷電機(jī)

開(kāi)封市伺服電機(jī)殼工業(yè)電機(jī)殼耐腐蝕風(fēng)冷電機(jī)殼/大截面鋁型材機(jī)殼生產(chǎn)/電機(jī)風(fēng)冷外殼風(fēng)冷電機(jī)殼：擠壓風(fēng)冷電機(jī)殼具有重量輕，震動(dòng)小，噪聲低防水防塵，防腐蝕的特點(diǎn)，散熱功能上比其他材質(zhì)更為出

鄭州市鋁電機(jī)殼水冷電機(jī)殼耐腐蝕電機(jī)外殼有微型電機(jī)外殼，空調(diào)電機(jī)殼，冷風(fēng)機(jī)電機(jī)外殼，水冷空調(diào)電機(jī)外殼，空壓機(jī)電機(jī)外殼，負(fù)壓風(fēng)機(jī)，電機(jī)外殼，電動(dòng)汽車(chē)電機(jī)外殼，三輪車(chē)電機(jī)外殼，伺服電機(jī)外

伺服電機(jī)殼南通市工業(yè)電機(jī)殼可回收水冷電機(jī)殼：擠壓水冷鋁合金電機(jī)殼其主要特點(diǎn)具有良好的散熱性，采用水循環(huán)方式，連續(xù)工作多個(gè)小時(shí)下溫度都能保持特定溫度，利于汽車(chē)電機(jī)散熱。其電機(jī)振動(dòng)小，

鹽城市工業(yè)電機(jī)殼@水冷鋁合金電機(jī)殼防腐蝕鋁電機(jī)殼生產(chǎn)廠家介紹鋁合金的優(yōu)勢(shì)質(zhì)量輕，鋁的密度約等于2.7g/cm3 耐腐蝕，鋁合金暴露在空氣中也不會(huì)被腐蝕，耐腐蝕性遠(yuǎn)勝于鋼鐵

連云港市新能源水冷電機(jī)殼體，電機(jī)轉(zhuǎn)子現(xiàn)貨風(fēng)冷電機(jī)殼由于傳統(tǒng)的風(fēng)冷電機(jī)殼加工過(guò)程風(fēng)冷電機(jī)殼與端蓋的同心度較差,造成鋁合金機(jī)殼電機(jī)運(yùn)行噪聲較大。根據(jù)風(fēng)冷電機(jī)殼的加工方式,設(shè)計(jì)了一種風(fēng)冷

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