閉環(huán)之困：損耗與機(jī)遇并存

ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過去，這些價(jià)值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。

銦在半導(dǎo)體、液晶顯示器等電子器件的生產(chǎn)中發(fā)揮著重要作用。銦靶材通常用于物相沉積（PVD）工藝中，制造薄膜。然而，銦靶材的成本高昂，且供應(yīng)有限，因此從廢棄或用過的靶材中回收銦變得至關(guān)重要。

ITO靶粉回收是指通過物理和化學(xué)方法，從廢棄的靶材或生產(chǎn)廢料中提取有價(jià)值的金屬成分，特別是金屬銦，并進(jìn)行再加工的過程。銦是一種稀有金屬，資源有限，價(jià)格較高，因此回收利用顯得尤為重要。

然而，回收產(chǎn)業(yè)仍面臨一些挑戰(zhàn)。例如，廢料來源分散，收集和運(yùn)輸成本較高；一些中小型企業(yè)缺乏回收技術(shù)和資金支持；回收過程中的環(huán)保要求日益嚴(yán)格，企業(yè)需投入更多資源滿足相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)。