閉環(huán)之困：損耗與機(jī)遇并存

ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過去，這些價(jià)值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。

在分離銦和其他金屬和材料時(shí)，可以采用幾種方法，包括選擇性溶解、溶劑萃取、離子交換和沉淀。選擇性溶解使用化學(xué)浸出劑選擇性地溶解銦，而保持其他金屬和材料不變。溶劑萃取使用有機(jī)溶劑選擇性地提取銦。離子交換則通過樹脂吸附銦離子，同時(shí)留下其他離子。沉淀法使用化學(xué)試劑使銦從溶液中沉淀出來，而將其他金屬和材料留在溶液中。

ITO靶粉回收過程通常包括以下幾個(gè)環(huán)節(jié)：

1.收集與分類。首先需要將生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的廢靶材、切削碎屑、鍍膜殘?jiān)冗M(jìn)行分類收集。不同類型的廢料可能需要采用不同的處理方式，因此分類是確保后續(xù)處理效率的基礎(chǔ)。

2.預(yù)處理。廢料中可能含有油脂、灰塵或其他雜質(zhì)，需通過清洗、烘干等方式進(jìn)行初步處理。對(duì)于塊狀廢料，可能需要通過機(jī)械破碎、研磨等方式將其轉(zhuǎn)化為粉末狀，以便于后續(xù)化學(xué)處理。

3.溶解與浸出。將預(yù)處理后的靶粉與酸性溶液（如鹽酸或硫酸）反應(yīng)，使金屬成分溶解到溶液中。這一步驟需要控制溫度、濃度和反應(yīng)時(shí)間，以提高金屬的浸出率。

4.分離與純化。通過化學(xué)沉淀、溶劑萃取或離子交換等方法，將溶液中的銦與其他金屬（如錫、鐵等）分離開來。隨后，通過進(jìn)一步提純，獲得高純度的銦化合物。

5.還原與加工。將純化后的銦化合物通過電解或化學(xué)還原法轉(zhuǎn)化為金屬銦，并可進(jìn)一步加工成符合生產(chǎn)要求的ITO靶材。

隨著電子行業(yè)的發(fā)展，ITO靶材的需求量逐年增長，推動(dòng)了對(duì)廢靶材回收的重視。目前，一些大型電子制造企業(yè)已開始建立自身的回收體系，或與專業(yè)回收公司合作，實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)廢料的循環(huán)利用。技術(shù)進(jìn)步也使得回收效率和金屬回收率不斷提高，進(jìn)一步降低了生產(chǎn)成本。