由于銦靶材在半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域有重要應(yīng)用，一些半導(dǎo)體相關(guān)的企業(yè)和科研機(jī)構(gòu)可能會(huì)有收購(gòu)銦靶材的需求。這些企業(yè)通常對(duì)銦靶材的質(zhì)量和規(guī)格有較高的要求，它們可能會(huì)通過(guò)專業(yè)的渠道或與行業(yè)內(nèi)的供應(yīng)商建立合作關(guān)系來(lái)獲取銦靶材。

ITO（氧化銦錫，Indium Tin Oxide）靶材廣泛應(yīng)用于液晶顯示器、觸摸屏、太陽(yáng)能電池等行業(yè)。隨著ITO靶材的廣泛使用，其回收再利用成為降低成本、減少資源浪費(fèi)、保護(hù)環(huán)境的重要環(huán)節(jié)。

ITO靶材的基本介紹

主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）

應(yīng)用領(lǐng)域：液晶顯示、OLED、太陽(yáng)能電池、觸摸屏等

靶材類型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）

在分離銦和其他金屬和材料時(shí)，可以采用幾種方法，包括選擇性溶解、溶劑萃取、離子交換和沉淀。選擇性溶解使用化學(xué)浸出劑選擇性地溶解銦，而保持其他金屬和材料不變。溶劑萃取使用有機(jī)溶劑選擇性地提取銦。離子交換則通過(guò)樹(shù)脂吸附銦離子，同時(shí)留下其他離子。沉淀法使用化學(xué)試劑使銦從溶液中沉淀出來(lái)，而將其他金屬和材料留在溶液中。