ITO靶材回收流程

1. 收集廢靶材：收集來源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。

2. 表面處理/預處理 ：清洗表面雜質、油污、物理去除殘留膜層

3. 靶材分離：機械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層

4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素

5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細化學手段，獲得高純度的銦、錫化合物

6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途

銦靶材回收的主要任務是將銦從靶材中的其他金屬和材料中分離出來，并將其提純至高純度?；厥辗椒òɑ鸱ā穹ê碗娀瘜W法。

火法冶金工藝使用高溫熔煉和精煉來回收銦。這種方法適用于大規(guī)模回收，但存在一些缺點，如產(chǎn)生危險廢物、高能耗，以及可能損失有價值的銦。

濕法冶金工藝利用化學浸出劑將銦從靶材中溶解出來。這種方法比火法更環(huán)保，適用于從成分復雜的靶材中回收銦。然而，這一過程可能較為復雜，需要使用危險化學品。

電化學過程通過電流將銦從靶材中溶解和回收。這種方法也比火法更環(huán)保，可以回收較高純度的銦。但這一過程可能較為復雜，需要專門的設備和專業(yè)知識。

在分離銦和其他金屬和材料時，可以采用幾種方法，包括選擇性溶解、溶劑萃取、離子交換和沉淀。選擇性溶解使用化學浸出劑選擇性地溶解銦，而保持其他金屬和材料不變。溶劑萃取使用有機溶劑選擇性地提取銦。離子交換則通過樹脂吸附銦離子，同時留下其他離子。沉淀法使用化學試劑使銦從溶液中沉淀出來，而將其他金屬和材料留在溶液中。

此外，銦在電子半導體領域也占有重要地位，消費量占全球的12%。同時，焊料和合金領域對銦的需求量也不容小覷，占比同樣達到12%。另外，由于其質地柔軟，銦還被用于某些需填充金屬的行業(yè)，如高溫下的真空縫隙填充。研究行業(yè)也占據(jù)了6%的消費量，展現(xiàn)了銦在科研領域的潛力。總的來說，銦元素以其多樣的用途和廣泛的應用領域，在工業(yè)生產(chǎn)中展現(xiàn)出了不可替代的價值。