ITO靶材的基本介紹

主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）

應(yīng)用領(lǐng)域：液晶顯示、OLED、太陽能電池、觸摸屏等

靶材類型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）

ITO靶材回收流程

1. 收集廢靶材：收集來源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。

2. 表面處理/預(yù)處理 ：清洗表面雜質(zhì)、油污、物理去除殘留膜層

3. 靶材分離：機(jī)械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層

4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素

5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細(xì)化學(xué)手段，獲得高純度的銦、錫化合物

6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途

ITO靶材主流回收技術(shù)

機(jī)械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。

濕法化學(xué)回收：利用酸堿進(jìn)行溶解分離，適合大批量廢靶材。

熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。

銦元素在工業(yè)生產(chǎn)中發(fā)揮著舉足輕重的作用。作為稀有金屬，銦以其獨(dú)特的性質(zhì)被廣泛應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域。其中，銦錠因其出色的光滲透性和導(dǎo)電性，成為生產(chǎn)ITO靶材的主要原料，這一應(yīng)用占據(jù)了全球銦消費(fèi)量的70%，是液晶顯示器和平板屏幕生產(chǎn)的關(guān)鍵。