廢ITO靶材回收的核心挑戰(zhàn)在于：

成分復雜：除In?O?、SnO?外，含粘結劑、金屬背板（銅/鉬）等。

高純度要求：再生銦純度需達99.99%以上，雜質含量需嚴格控制在ppm級，否則影響新靶材性能。

銦錫分離：分離銦錫是實現(xiàn)價值化的關鍵。

閉環(huán)工藝：價值再造的精益之路

銦屬稀有金屬,是一種重要的電子工業(yè)材料,在高技術領域有著廣泛的應用,主要集中在半導體、透明導電涂層、電子器件、熒光材料、金屬有機物等方面。它在地殼中非常稀有而且分散,又稱之為稀散金屬,銦在地殼中的豐度很低,多種文獻報道不一,普遍認為僅011μg/g,至今以其為主要成分的礦床尚未發(fā)現(xiàn),它通常以微量(01005%)的組分共生于與其性質類似的鋅、鉛、銅和錫等礦物上,一般是從鋅、鉛、銅和錫等重金屬冶煉的煙塵、熔渣中回收生產。

ITO靶材主流回收技術：

機械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。

濕法化學回收：利用酸堿進行溶解分離，適合大批量廢靶材。

熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。

ITO靶材回收市場需求持續(xù)增長，尤其在顯示面板和光伏行業(yè)。銦價高企，促使更多企業(yè)關注廢靶材的回收利用。隨著技術進步，回收工藝趨于環(huán)保。

常見問題答疑：

1. 廢靶材回收價格如何計算？

主要根據(jù)靶材剩余銦錫含量、市場行情、回收工藝等因素浮動。

2. 回收的銦錫純度能否滿足再次制靶需求？

取決于回收及精煉工藝，多數(shù)高品質回收企業(yè)可將純度提升至制靶要求。

3. 回收周期多久？

一般為12周，具體視回收量和工藝流程而定。