廢ITO靶材回收的核心挑戰(zhàn)在于：

成分復(fù)雜：除In?O?、SnO?外，含粘結(jié)劑、金屬背板（銅/鉬）等。

高純度要求：再生銦純度需達99.99%以上，雜質(zhì)含量需嚴格控制在ppm級，否則影響新靶材性能。

銦錫分離：分離銦錫是實現(xiàn)價值化的關(guān)鍵。

閉環(huán)工藝：價值再造的精益之路

ITO（氧化銦錫，Indium Tin Oxide）靶材廣泛應(yīng)用于液晶顯示器、觸摸屏、太陽能電池等行業(yè)。隨著ITO靶材的廣泛使用，其回收再利用成為降低成本、減少資源浪費、保護環(huán)境的重要環(huán)節(jié)。

從電子廢物和廢ITO靶材等廢物來源中回收氧化銦是銦回收的一個重要方面。從這些廢源中回收氧化銦可以通過各種工藝實現(xiàn)，包括化學(xué)處理、溶劑萃取和離子交換，回收的氧化銦可用于生產(chǎn)各種半導(dǎo)體器件，從而減少對新銦資源的需求，并將銦開采對環(huán)境的影響降至。

在當今環(huán)保意識日益增強的時代，銦靶材的回收再利用成為了行業(yè)內(nèi)關(guān)注的焦點。ITO靶材，作為銦錫氧化物靶材的簡稱，廣泛應(yīng)用于平板顯示、太陽能電池等領(lǐng)域，其回收價值不言而喻。