ITO靶材回收的必要性
1. 資源稀缺：銦為稀有金屬，資源有限，價格昂貴。
2. 成本控制：回收廢舊ITO靶材可降低企業(yè)原材料采購成本。
3. 環(huán)保要求：減少廢棄物排放，符合綠色生產(chǎn)理念。
ITO靶材回收流程：
1. 收集廢靶材：收集來源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。
2. 表面處理/預處理 ：清洗表面雜質(zhì)、油污、物理去除殘留膜層
3. 靶材分離：機械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層
4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素
5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細化學手段，獲得高純度的銦、錫化合物
6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途
從用過的ITO靶材中回收氧化銦的另一種方法是使用離子交換樹脂，離子交換樹脂用于選擇性地從酸性溶液中吸附銦，然后用酸性溶液將銦從樹脂中洗脫出來，并通過焙燒得到氧化銦。
從電子廢物和廢ITO靶材等廢物來源中回收氧化銦是銦回收的一個重要方面。從這些廢源中回收氧化銦可以通過各種工藝實現(xiàn)，包括化學處理、溶劑萃取和離子交換，回收的氧化銦可用于生產(chǎn)各種半導體器件，從而減少對新銦資源的需求，并將銦開采對環(huán)境的影響降至。
