ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過去，這些價值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。

全球靶材企業(yè)（如JX日礦、三井礦業(yè)）已建立完善回收體系。中國廠商如先導、阿石創(chuàng)也在加速布局。這場圍繞“銦循環(huán)”的閉環(huán)革命，正在重塑顯示材料產(chǎn)業(yè)的競爭格局與可持續(xù)未來。誰掌握了回收技術(shù)，誰就扼住了產(chǎn)業(yè)鏈的咽喉。

ITO靶材的基本介紹：

主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）

應(yīng)用領(lǐng)域：液晶顯示、OLED、太陽能電池、觸摸屏等

靶材類型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）

從用過的ITO靶材中回收氧化銦的另一種方法是使用離子交換樹脂，離子交換樹脂用于選擇性地從酸性溶液中吸附銦，然后用酸性溶液將銦從樹脂中洗脫出來，并通過焙燒得到氧化銦。