ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產生。過去，這些價值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。

ITO靶材回收市場需求持續(xù)增長，尤其在顯示面板和光伏行業(yè)。銦價高企，促使更多企業(yè)關注廢靶材的回收利用。隨著技術進步，回收工藝趨于環(huán)保。

常見問題答疑：

1. 廢靶材回收價格如何計算？

主要根據靶材剩余銦錫含量、市場行情、回收工藝等因素浮動。

2. 回收的銦錫純度能否滿足再次制靶需求？

取決于回收及精煉工藝，多數高品質回收企業(yè)可將純度提升至制靶要求。

3. 回收周期多久？

一般為12周，具體視回收量和工藝流程而定。

從用過的ITO靶材中回收氧化銦包括幾個步驟，包括溶解、沉淀和焙燒。首先將目標材料溶解在鹽酸中，鹽酸溶解氧化銦，然后加入氫氧化鈉從酸性溶液中析出氧化銦。生成的氫氧化銦然后在高溫下焙燒得到氧化銦。

從電子廢物和廢ITO靶材等廢物來源中回收氧化銦是銦回收的一個重要方面。從這些廢源中回收氧化銦可以通過各種工藝實現，包括化學處理、溶劑萃取和離子交換，回收的氧化銦可用于生產各種半導體器件，從而減少對新銦資源的需求，并將銦開采對環(huán)境的影響降至。