廢ITO靶材回收的核心挑戰(zhàn)在于：

成分復(fù)雜：除In?O?、SnO?外，含粘結(jié)劑、金屬背板（銅/鉬）等。

高純度要求：再生銦純度需達(dá)99.99%以上，雜質(zhì)含量需嚴(yán)格控制在ppm級(jí)，否則影響新靶材性能。

銦錫分離：分離銦錫是實(shí)現(xiàn)價(jià)值化的關(guān)鍵。

閉環(huán)工藝：價(jià)值再造的精益之路

閉環(huán)回收帶來(lái)的不僅是環(huán)保效益：

供應(yīng)鏈：降低對(duì)原生銦礦進(jìn)口依賴，抵御價(jià)格波動(dòng)風(fēng)險(xiǎn)。

顯著降本：再生銦成本可低于原生銦30%以上，靶材企業(yè)毛利率提升。

品牌增值：滿足蘋果、三星等巨頭對(duì)再生材料比例的硬性要求。

技術(shù)壁壘：分離提純工藝構(gòu)成核心競(jìng)爭(zhēng)力。

ITO（氧化銦錫，Indium Tin Oxide）靶材廣泛應(yīng)用于液晶顯示器、觸摸屏、太陽(yáng)能電池等行業(yè)。隨著ITO靶材的廣泛使用，其回收再利用成為降低成本、減少資源浪費(fèi)、保護(hù)環(huán)境的重要環(huán)節(jié)。

ITO靶材主流回收技術(shù)：

機(jī)械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。

濕法化學(xué)回收：利用酸堿進(jìn)行溶解分離，適合大批量廢靶材。

熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。