ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過去，這些價(jià)值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。

ITO靶材主流回收技術(shù)：

機(jī)械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。

濕法化學(xué)回收：利用酸堿進(jìn)行溶解分離，適合大批量廢靶材。

熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。

ITO靶材回收注意事項(xiàng)：

措施：處理酸堿和廢液時(shí)需注意和環(huán)保。

環(huán)保合規(guī)：廢液和殘?jiān)柽_(dá)標(biāo)處理，避免二次污染。

回收效率：合理選擇工藝，提高銦、錫的回收率和純度。

從電子廢物和廢ITO靶材等廢物來源中回收氧化銦是銦回收的一個(gè)重要方面。從這些廢源中回收氧化銦可以通過各種工藝實(shí)現(xiàn)，包括化學(xué)處理、溶劑萃取和離子交換，回收的氧化銦可用于生產(chǎn)各種半導(dǎo)體器件，從而減少對(duì)新銦資源的需求，并將銦開采對(duì)環(huán)境的影響降至。