廢ITO靶材回收的核心挑戰(zhàn)在于:
成分復雜:除In?O?、SnO?外,含粘結劑、金屬背板(銅/鉬)等。
高純度要求:再生銦純度需達99.99%以上,雜質含量需嚴格控制在ppm級,否則影響新靶材性能。
銦錫分離:分離銦錫是實現價值化的關鍵。
閉環(huán)工藝:價值再造的精益之路
全球靶材企業(yè)(如JX日礦、三井礦業(yè))已建立完善回收體系。中國廠商如先導、阿石創(chuàng)也在加速布局。這場圍繞“銦循環(huán)”的閉環(huán)革命,正在重塑顯示材料產業(yè)的競爭格局與可持續(xù)未來。誰掌握了回收技術,誰就扼住了產業(yè)鏈的咽喉。
氧化銦錫(ITO)靶材廣泛應用于平板顯示器和太陽能電池的生產,在ITO目標使用了一段時間后,將其替換為新的目標,用過的ITO靶含有大量的銦,可以通過各種工藝回收。
從用過的ITO靶材中回收氧化銦包括幾個步驟,包括溶解、沉淀和焙燒。首先將目標材料溶解在鹽酸中,鹽酸溶解氧化銦,然后加入氫氧化鈉從酸性溶液中析出氧化銦。生成的氫氧化銦然后在高溫下焙燒得到氧化銦。