全球靶材企業(yè)（如JX日礦、三井礦業(yè)）已建立完善回收體系。中國(guó)廠商如先導(dǎo)、阿石創(chuàng)也在加速布局。這場(chǎng)圍繞“銦循環(huán)”的閉環(huán)革命，正在重塑顯示材料產(chǎn)業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)格局與可持續(xù)未來(lái)。誰(shuí)掌握了回收技術(shù)，誰(shuí)就扼住了產(chǎn)業(yè)鏈的咽喉。

ITO靶材的基本介紹：

主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）

應(yīng)用領(lǐng)域：液晶顯示、OLED、太陽(yáng)能電池、觸摸屏等

靶材類(lèi)型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）

ITO靶材回收流程：

1. 收集廢靶材：收集來(lái)源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。

2. 表面處理/預(yù)處理 ：清洗表面雜質(zhì)、油污、物理去除殘留膜層

3. 靶材分離：機(jī)械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層

4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素

5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細(xì)化學(xué)手段，獲得高純度的銦、錫化合物

6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途

從用過(guò)的ITO靶材中回收氧化銦包括幾個(gè)步驟，包括溶解、沉淀和焙燒。首先將目標(biāo)材料溶解在鹽酸中，鹽酸溶解氧化銦，然后加入氫氧化鈉從酸性溶液中析出氧化銦。生成的氫氧化銦然后在高溫下焙燒得到氧化銦。