廢ITO靶材回收的核心挑戰(zhàn)在于：

成分復(fù)雜：除In?O?、SnO?外，含粘結(jié)劑、金屬背板（銅/鉬）等。

高純度要求：再生銦純度需達(dá)99.99%以上，雜質(zhì)含量需嚴(yán)格控制在ppm級(jí)，否則影響新靶材性能。

銦錫分離：分離銦錫是實(shí)現(xiàn)價(jià)值化的關(guān)鍵。

閉環(huán)工藝：價(jià)值再造的精益之路

銦屬稀有金屬,是一種重要的電子工業(yè)材料,在高技術(shù)領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用,主要集中在半導(dǎo)體、透明導(dǎo)電涂層、電子器件、熒光材料、金屬有機(jī)物等方面。它在地殼中非常稀有而且分散,又稱之為稀散金屬,銦在地殼中的豐度很低,多種文獻(xiàn)報(bào)道不一,普遍認(rèn)為僅011μg/g,至今以其為主要成分的礦床尚未發(fā)現(xiàn),它通常以微量(01005%)的組分共生于與其性質(zhì)類似的鋅、鉛、銅和錫等礦物上,一般是從鋅、鉛、銅和錫等重金屬冶煉的煙塵、熔渣中回收生產(chǎn)。

ITO靶材回收流程：

1. 收集廢靶材：收集來源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。

2. 表面處理/預(yù)處理 ：清洗表面雜質(zhì)、油污、物理去除殘留膜層

3. 靶材分離：機(jī)械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層

4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素

5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細(xì)化學(xué)手段，獲得高純度的銦、錫化合物

6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途

ITO靶材回收價(jià)格：

ITO靶材的回收價(jià)格受多種因素影響，包括銦的市場(chǎng)價(jià)格、靶材的純度、回收企業(yè)的技術(shù)水平等。一般來說，銦的市場(chǎng)價(jià)格越高，ITO靶材的回收價(jià)格也就越高。同時(shí)，靶材的純度越高，回收價(jià)值也就越大。

具體來說，ITO靶材的回收價(jià)格通常以每公斤為單位進(jìn)行計(jì)算。不同時(shí)間、不同地區(qū)的回收價(jià)格可能存在差異。因此，建議有回收需求的客戶在選擇回收企業(yè)時(shí)，要充分了解市場(chǎng)行情，選擇信譽(yù)良好、技術(shù)先進(jìn)的回收企業(yè)。