廢ITO靶材回收的核心挑戰(zhàn)在于：

成分復雜：除In?O?、SnO?外，含粘結劑、金屬背板（銅/鉬）等。

高純度要求：再生銦純度需達99.99%以上，雜質含量需嚴格控制在ppm級，否則影響新靶材性能。

銦錫分離：分離銦錫是實現價值化的關鍵。

閉環(huán)工藝：價值再造的精益之路

閉環(huán)回收帶來的不僅是環(huán)保效益：

供應鏈：降低對原生銦礦進口依賴，抵御價格波動風險。

顯著降本：再生銦成本可低于原生銦30%以上，靶材企業(yè)毛利率提升。

品牌增值：滿足蘋果、三星等巨頭對再生材料比例的硬性要求。

技術壁壘：分離提純工藝構成核心競爭力。

氧化銦錫(ITO)靶材廣泛應用于平板顯示器和太陽能電池的生產，在ITO目標使用了一段時間后，將其替換為新的目標，用過的ITO靶含有大量的銦，可以通過各種工藝回收。

從用過的ITO靶材中回收氧化銦包括幾個步驟，包括溶解、沉淀和焙燒。首先將目標材料溶解在鹽酸中，鹽酸溶解氧化銦，然后加入氫氧化鈉從酸性溶液中析出氧化銦。生成的氫氧化銦然后在高溫下焙燒得到氧化銦。