ITO靶材的基本介紹：

主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）

應(yīng)用領(lǐng)域：液晶顯示、OLED、太陽能電池、觸摸屏等

靶材類型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）

ITO靶材主流回收技術(shù)：

機械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。

濕法化學回收：利用酸堿進行溶解分離，適合大批量廢靶材。

熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。

從電子廢物和廢ITO靶材等廢物來源中回收氧化銦是銦回收的一個重要方面。從這些廢源中回收氧化銦可以通過各種工藝實現(xiàn)，包括化學處理、溶劑萃取和離子交換，回收的氧化銦可用于生產(chǎn)各種半導體器件，從而減少對新銦資源的需求，并將銦開采對環(huán)境的影響降至。

隨著科技的飛速發(fā)展，ITO靶材的需求量持續(xù)增長。然而，ITO靶材的生產(chǎn)過程中需要消耗大量的銦資源，而銦是一種稀有的有色金屬，全球儲量有限。因此，ITO靶材的回收再利用不僅有助于節(jié)約資源，還能減少環(huán)境污染，實現(xiàn)可持續(xù)發(fā)展。