ITO靶材的基本介紹：

主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）

應(yīng)用領(lǐng)域：液晶顯示、OLED、太陽能電池、觸摸屏等

靶材類型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）

ITO靶材主流回收技術(shù)：

機(jī)械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。

濕法化學(xué)回收：利用酸堿進(jìn)行溶解分離，適合大批量廢靶材。

熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。

氧化銦錫(ITO)靶材廣泛應(yīng)用于平板顯示器和太陽能電池的生產(chǎn)，在ITO目標(biāo)使用了一段時(shí)間后，將其替換為新的目標(biāo)，用過的ITO靶含有大量的銦，可以通過各種工藝回收。

在當(dāng)今環(huán)保意識日益增強(qiáng)的時(shí)代，銦靶材的回收再利用成為了行業(yè)內(nèi)關(guān)注的焦點(diǎn)。ITO靶材，作為銦錫氧化物靶材的簡稱，廣泛應(yīng)用于平板顯示、太陽能電池等領(lǐng)域，其回收價(jià)值不言而喻。