廢ITO靶材回收的核心挑戰(zhàn)在于：

成分復(fù)雜：除In?O?、SnO?外，含粘結(jié)劑、金屬背板（銅/鉬）等。

高純度要求：再生銦純度需達99.99%以上，雜質(zhì)含量需嚴格控制在ppm級，否則影響新靶材性能。

銦錫分離：分離銦錫是實現(xiàn)價值化的關(guān)鍵。

閉環(huán)工藝：價值再造的精益之路

ITO靶材回收注意事項：

措施：處理酸堿和廢液時需注意和環(huán)保。

環(huán)保合規(guī)：廢液和殘渣需達標處理，避免二次污染。

回收效率：合理選擇工藝，提高銦、錫的回收率和純度。

氧化銦錫(ITO)靶材廣泛應(yīng)用于平板顯示器和太陽能電池的生產(chǎn)，在ITO目標使用了一段時間后，將其替換為新的目標，用過的ITO靶含有大量的銦，可以通過各種工藝回收。

從用過的ITO靶材中回收氧化銦包括幾個步驟，包括溶解、沉淀和焙燒。首先將目標材料溶解在鹽酸中，鹽酸溶解氧化銦，然后加入氫氧化鈉從酸性溶液中析出氧化銦。生成的氫氧化銦然后在高溫下焙燒得到氧化銦。