ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過去，這些價值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。

ITO靶材回收的必要性

1. 資源稀缺：銦為稀有金屬，資源有限，價格昂貴。

2. 成本控制：回收廢舊ITO靶材可降低企業(yè)原材料采購成本。

3. 環(huán)保要求：減少廢棄物排放，符合綠色生產(chǎn)理念。

ITO靶材回收注意事項：

措施：處理酸堿和廢液時需注意和環(huán)保。

環(huán)保合規(guī)：廢液和殘渣需達標(biāo)處理，避免二次污染。

回收效率：合理選擇工藝，提高銦、錫的回收率和純度。

氧化銦錫(ITO)靶材廣泛應(yīng)用于平板顯示器和太陽能電池的生產(chǎn)，在ITO目標(biāo)使用了一段時間后，將其替換為新的目標(biāo)，用過的ITO靶含有大量的銦，可以通過各種工藝回收。