ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過去，這些價(jià)值的廢料往往被簡(jiǎn)單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。

廢ITO靶材回收的核心挑戰(zhàn)在于：

成分復(fù)雜：除In?O?、SnO?外，含粘結(jié)劑、金屬背板（銅/鉬）等。

高純度要求：再生銦純度需達(dá)99.99%以上，雜質(zhì)含量需嚴(yán)格控制在ppm級(jí)，否則影響新靶材性能。

銦錫分離：分離銦錫是實(shí)現(xiàn)價(jià)值化的關(guān)鍵。

閉環(huán)工藝：價(jià)值再造的精益之路

銦屬稀有金屬,是一種重要的電子工業(yè)材料,在高技術(shù)領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用,主要集中在半導(dǎo)體、透明導(dǎo)電涂層、電子器件、熒光材料、金屬有機(jī)物等方面。它在地殼中非常稀有而且分散,又稱之為稀散金屬,銦在地殼中的豐度很低,多種文獻(xiàn)報(bào)道不一,普遍認(rèn)為僅011μg/g,至今以其為主要成分的礦床尚未發(fā)現(xiàn),它通常以微量(01005%)的組分共生于與其性質(zhì)類似的鋅、鉛、銅和錫等礦物上,一般是從鋅、鉛、銅和錫等重金屬冶煉的煙塵、熔渣中回收生產(chǎn)。

ITO靶材回收注意事項(xiàng)：

措施：處理酸堿和廢液時(shí)需注意和環(huán)保。

環(huán)保合規(guī)：廢液和殘?jiān)柽_(dá)標(biāo)處理，避免二次污染。

回收效率：合理選擇工藝，提高銦、錫的回收率和純度。