ITO靶材，全稱氧化銦錫靶材，是一種專門用于磁控濺射鍍膜的材料。氧化銦錫（簡稱ITO）是一種n型半導(dǎo)體材料，通常由90%的氧化銦（In?O?）和10%的氧化錫（SnO?）組成。這種材料以其的透明度和導(dǎo)電性，成為現(xiàn)代電子工業(yè)中不可或缺的組成部分。無論是智能手機的觸摸屏、平板電腦的顯示面板，還是太陽能電池的透明電極，ITO靶材都以其獨特的功能支撐著這些設(shè)備的運行。

冷等靜壓法

工藝流程：將混合粉末裝入柔性模具，在室溫下通過高壓（100-300兆帕）壓制成型，隨后在較低溫度下燒結(jié)固化。

優(yōu)點：工藝相對簡單，生產(chǎn)成本較低，適合小批量或定制化生產(chǎn)。

缺點：靶材密度和均勻性稍遜，可能在高功率濺射中表現(xiàn)不夠穩(wěn)定。

適用場景：中低端電子產(chǎn)品或?qū)嶒炇已邪l(fā)用靶材。

這兩種方法各有千秋，制造商需要根據(jù)具體需求權(quán)衡成本與性能。

在堆積如山的廢棄手機、平板電腦和液晶顯示器深處，隱藏著一種被稱為“電子時代血脈”的稀有金屬——銦。它雖在自然界中蹤跡難尋，卻在ITO靶材（氧化銦錫）中扮演著不可替代的角色，驅(qū)動著全球億萬塊液晶屏幕的清晰成像。隨著電子產(chǎn)品更新?lián)Q代加速，一條從“電子垃圾”到“戰(zhàn)略資源”的銦回收產(chǎn)業(yè)鏈正悄然崛起，成為保障產(chǎn)業(yè)與生態(tài)可持續(xù)的關(guān)鍵密碼。

技術(shù)破局：從粗放走向精純

現(xiàn)代銦回收工藝已形成精細鏈條：

預(yù)處理與富集：機械破碎液晶屏 → 高溫焚燒去除有機物 → 酸溶浸出（常用硫酸/鹽酸），將銦等金屬轉(zhuǎn)入溶液。

深度分離提純（核心技術(shù)）：

溶劑萃取法：利用特定有機溶劑（如P204）選擇性“捕獲”溶液中的銦離子，實現(xiàn)與鐵、鋅、錫等雜質(zhì)的深度分離，富集倍數(shù)可達千倍。

離子交換法：功能樹脂吸附銦離子，適用于低濃度溶液提純。

電解沉積：對富銦溶液通電，在陰極析出粗銦。

高純精煉：對粗銦進行真空蒸餾、區(qū)域熔煉等，去除微量雜質(zhì)（如鎘、鉛），產(chǎn)出純度高達99.99%（4N）以上的精銦，滿足高端ITO靶材要求。

綠色升級：循環(huán)經(jīng)濟的必由之路

相比開采原生礦（主要來自鋅冶煉副產(chǎn)品），從電子垃圾中回收銦具有顯著優(yōu)勢：

資源保障：1噸廢棄液晶面板可提取200-300克銦，品位遠超原礦。

節(jié)能減排：回收能耗僅為原生銦生產(chǎn)的1/3，大幅降低碳排放。

環(huán)境友好：減少電子垃圾填埋污染，避免采礦生態(tài)破壞。

經(jīng)濟可行：銦價高企（曾超1000美元/公斤）賦予回收強勁動力。