ITO靶材的核心用途是在磁控濺射工藝中作為“濺射源”。磁控濺射是一種常見的薄膜沉積技術(shù)，通過高能離子轟擊靶材表面，使靶材原子被“敲擊”出來，終沉積在基板上，形成一層均勻的ITO薄膜。這層薄膜厚度通常在幾十到幾百納米之間，卻能同時實現(xiàn)導(dǎo)電和透光的功能。

目前，ITO靶材的制備主要有兩種常見方法：熱壓燒結(jié)法和冷等靜壓法。

熱壓燒結(jié)法

工藝流程：將氧化銦和氧化錫粉末按比例混合后，放入模具，在高溫（1000-1500°C）和高壓（幾十到幾百兆帕）下壓制成型。高溫使粉末顆粒熔融結(jié)合，形成致密的靶材結(jié)構(gòu)。

優(yōu)點：這種方法制備的靶材密度接近理論值（通常超過99%），晶粒分布均勻，適合高精度鍍膜需求。

缺點：設(shè)備復(fù)雜，能耗高，生產(chǎn)成本較高。

適用場景：高端電子產(chǎn)品，如智能手機(jī)、平板電腦的顯示屏制造。

在智能手機(jī)、平板電腦、超清電視的光滑屏幕背后，ITO靶材（氧化銦錫）是賦予其透明導(dǎo)電魔力的核心材料。作為ITO靶材的關(guān)鍵成分，銦（In）的穩(wěn)定供應(yīng)直接關(guān)系到全球萬億級顯示產(chǎn)業(yè)的命脈。然而，這種稀散金屬的地緣分布不均（中國儲量占全球70%以上）和原生礦產(chǎn)的有限性，使得銦的回收再利用不再是環(huán)保課題，更成為保障產(chǎn)業(yè)、實現(xiàn)供應(yīng)鏈韌性的“閉環(huán)”革命。

技術(shù)破局：從粗放走向精純

現(xiàn)代銦回收工藝已形成精細(xì)鏈條：

預(yù)處理與富集：機(jī)械破碎液晶屏 → 高溫焚燒去除有機(jī)物 → 酸溶浸出（常用硫酸/鹽酸），將銦等金屬轉(zhuǎn)入溶液。

深度分離提純（核心技術(shù)）：

溶劑萃取法：利用特定有機(jī)溶劑（如P204）選擇性“捕獲”溶液中的銦離子，實現(xiàn)與鐵、鋅、錫等雜質(zhì)的深度分離，富集倍數(shù)可達(dá)千倍。

離子交換法：功能樹脂吸附銦離子，適用于低濃度溶液提純。

電解沉積：對富銦溶液通電，在陰極析出粗銦。

高純精煉：對粗銦進(jìn)行真空蒸餾、區(qū)域熔煉等，去除微量雜質(zhì)（如鎘、鉛），產(chǎn)出純度高達(dá)99.99%（4N）以上的精銦，滿足高端ITO靶材要求。

綠色升級：循環(huán)經(jīng)濟(jì)的必由之路

相比開采原生礦（主要來自鋅冶煉副產(chǎn)品），從電子垃圾中回收銦具有顯著優(yōu)勢：

資源保障：1噸廢棄液晶面板可提取200-300克銦，品位遠(yuǎn)超原礦。

節(jié)能減排：回收能耗僅為原生銦生產(chǎn)的1/3，大幅降低碳排放。

環(huán)境友好：減少電子垃圾填埋污染，避免采礦生態(tài)破壞。

經(jīng)濟(jì)可行：銦價高企（曾超1000美元/公斤）賦予回收強(qiáng)勁動力。