預處理：載體去除與鈀粉分離

高溫灼燒法

適用于固態(tài)鈀漿或附著在耐高溫基材（如陶瓷、金屬）上的廢料。在氧化氣氛（空氣）中，于 800-1000℃灼燒，有機載體分解為 CO?和 H?O，無機黏合劑（如玻璃粉）熔融后形成渣相，鈀以金屬單質或氧化物（PdO）形式殘留。優(yōu)點是徹底去除有機物，缺點是高溫可能導致鈀顆粒燒結（影響后續(xù)溶解效率），需控制升溫速率（5-10℃/min）。

溶劑萃取法

適用于液態(tài)或半固態(tài)鈀漿（未固化載體）。用強極性溶劑（如 N - 吡咯烷酮、二甲酰胺）溶解有機樹脂，通過離心或過濾分離出鈀粉。對部分固化載體，可先加堿性溶液（如 NaOH 乙醇溶液）破壞樹脂交聯(lián)結構，再用溶劑溶解。優(yōu)點是常溫操作，鈀粉活性高，缺點是溶劑成本高，需蒸餾回收。

酸蝕法

適用于附著在金屬基材（如銅、鎳合金）上的鈀漿層。用稀硝酸或硫酸溶解基材（如銅基材：Cu + 2HNO?(稀) = Cu (NO?)? + NO↑ + H?O），保留鈀漿層不溶解（鈀在稀酸中穩(wěn)定性高），隨后剝離鈀漿。

材質與成分

基材：通常采用超纖纖維，如聚酯、尼龍等，占比 85% 以上，也有使用無紡布基質的。這些材質表面細膩、柔軟，具有較強的吸附能力，能有效保護黃金表面避免劃痕和損傷。

添加成分：包含納米拋光材料和去污成分，能夠去除金器表面的氧化污垢。部分擦金布還可能添加了特殊的防護成分，可在金飾表面形成一層保護膜，延緩氧化進程。

電子廠：半導體藍膜，半導體鍍金硅片、鍍銀瓷片、壓敏電阻、薄膜開關，廢冷光片，背光源，廢銀漿、鈀漿、擦銀布、擦金布，銀漿罐、金漿罐、含鈀陶瓷片，含金陶瓷片，含銀的陶瓷片、銀焊條、銀焊絲、銀粉、導電銀膠，鍍金，鍍銀，鍍銠鍍鉑等廢料。

首飾廠：拋光打磨粉，地毯，洗手池等廢料。

印刷廠：印刷廢菲林、X光片、定影水。

化工石油廠：銀，鈀，鉑，銠，釕催化劑等。

小金屬：粗銦，精銦，ito銦靶材，粗鎵，金屬鎵99.99以及廢料。

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