銦靶是指以銦為主要成分的濺射靶材，是一種在材料表面鍍膜過(guò)程中用于提供銦源的材料。在真空濺射鍍膜工藝中，銦靶材在高能粒子的轟擊下，銦原子被濺射出來(lái)并沉積在基底材料表面，形成所需的銦薄膜。

顯示面板制造：是銦靶的應(yīng)用領(lǐng)域，約占總需求的 52%，主要用于液晶顯示器（LCD）與有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）的 ITO 透明導(dǎo)電膜制備，可使面板具有良好的導(dǎo)電性和透明性。

半導(dǎo)體領(lǐng)域：占比 28%，用于晶圓制造的金屬互聯(lián)層與鈍化層沉積，在第三代半導(dǎo)體器件制造中的滲透率持續(xù)攀升，如氮化鎵功率器件就需要使用銦靶。

觸控技術(shù)領(lǐng)域：電容式和電阻式觸摸屏中，ITO 作為電極材料，其透明性和導(dǎo)電性決定了觸控設(shè)備的靈敏度和視覺(jué)效果。