超高密度成型：超高密度成型工藝（≥99.5%）可使靶材具有更好的性能，提高在真空濺射過(guò)程中的穩(wěn)定性和使用壽命。

晶粒定向控制：晶粒定向控制技術(shù)能夠控制銦靶的晶粒尺寸和方向，提升濺射薄膜的質(zhì)量和性能，滿足高端應(yīng)用領(lǐng)域的需求。

優(yōu)異的光學(xué)性能：在可見(jiàn)光波段（380-780nm）內(nèi)，ITO 薄膜的透光率通常能夠達(dá)到 80% 以上，高透光率確保了其在顯示器、太陽(yáng)能電池等應(yīng)用中的良好表現(xiàn)。

精銦的制備需經(jīng)過(guò)多步精煉，核心工藝包括：

原料預(yù)處理：以鋅冶煉副產(chǎn)物（如浸出渣、煙灰）或含銦廢料為原料，通過(guò)酸浸、萃取等方式初步分離銦。

電解精煉：將粗銦溶解為銦鹽溶液（如硫酸銦），通過(guò)電解沉積得到純度約 99.95% 的粗精銦。

深度提純：

真空蒸餾：在高真空條件下利用銦與雜質(zhì)的沸點(diǎn)差異（銦沸點(diǎn) 2080℃，雜質(zhì)如鋅沸點(diǎn) 907℃）去除低沸點(diǎn)雜質(zhì)。

區(qū)域熔煉：通過(guò)移動(dòng)加熱區(qū)使雜質(zhì)在固液界面重新分布，多次操作后可將純度提升至 6N 以上。

化學(xué)提純：利用萃取劑（如三丁基氧化膦）或離子交換樹(shù)脂進(jìn)一步去除微量金屬離子。

合金與特殊材料（占比約 10%）：

銦錫合金：熔點(diǎn)低至 120℃，用于保險(xiǎn)絲、牙科材料；銦鉛合金可作為核反應(yīng)堆的中子吸收材料。

銦箔與涂層：高純銦箔用于真空密封、輻射屏蔽（如 X 射線探測(cè)器），或作為耐腐蝕涂層（如海洋工程）。

科研與新興領(lǐng)域：

量子點(diǎn)顯示、鈣鈦礦電池、柔性電子器件等前沿技術(shù)中，精銦作為高純?cè)嫌糜诒∧こ练e或材料合成。