當前ITO靶材回收主要圍繞銦元素提取展開，主要分為物理法、化學法和聯合工藝三類：

熔煉過濾法（物理法）

通過高溫熔煉結合篩網過濾實現銦與其他金屬的分離。具體流程包括：

廢銦塊在625℃熔煉爐中熔化，利用鐵/不銹鋼篩網（30-40目）截留固態(tài)雜質鐵、鋁。

熔融銦通過重力滴落收集，殘留物可二次熔煉提升回收率至72%。

該方法具有設備簡單（圖1）、周期短（單次處理≤60分鐘）的優(yōu)勢，適用于含銦量70%-90%的廢靶材。但需控溫（±5℃），否則雜質金屬可能熔化導致純度下降至95%以下。

ITO靶材，即銦錫氧化物靶材，主要由氧化銦（In?O?）和氧化錫（SnO?）組成，其中氧化銦占比高達90%。ITO靶材因其優(yōu)異的導電性和高透光性，成為液晶顯示器（LCD）、觸摸屏及太陽能電池等光電設備的理想材料。其晶體結構穩(wěn)定，電導率高，確保了設備的運行。

除了ITO靶材外，銦還廣泛應用于其他領域，如半導體材料、太陽能電池、LED等。因此，回收銦不于ITO靶材的回收，還包括其他含銦廢料的回收。ITO靶材的回收再利用具有重要的意義和價值。通過科學的回收技術和流程，不僅可以實現資源的循環(huán)利用，還能減少環(huán)境污染，推動可持續(xù)發(fā)展。同時，回收銦也需要關注性、環(huán)保性和合規(guī)性等方面的問題。

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