潔凈室的發(fā)展與現(xiàn)代工業(yè)、技術密切聯(lián)系在一起。由于精密機械工業(yè)（如陀螺儀、微型軸承等加工）、半導體工業(yè)（如大規(guī)模集成電路生產(chǎn)）等對環(huán)境的要求，促進了潔凈室技術的發(fā)展。國內(nèi)曾統(tǒng)計過，在無潔凈級別的要求的環(huán)境下生產(chǎn)MOS電路管芯的合格率僅10%~15%，64位儲存器僅2%。目前在精密機械、半導體、宇航、原子能等工業(yè)中應用潔凈室已相當普遍。

非單向流潔凈室：以前常稱為亂流型潔凈室，室內(nèi)的氣流并不都按單一方向流動。非單向流潔凈室有幾個共同的特點：終端過濾器（或亞）盡量接近潔凈室，它可以就是送風口或直接連送風口，也可以接到房間的送風靜壓箱上；回風口均設在潔凈室的下部，目的是避免出現(xiàn)“揚灰”現(xiàn)象。非單向流潔凈室中都有渦流存在，不適宜用于高潔凈度的潔凈室中，宜用于6~9級的潔凈室中。

工作區(qū)的氣流應均勻，流速必須滿足工藝和衛(wèi)生的要求；潔凈氣流應盡可能把工作部位圍罩起來，使污染物在擴散之前便流向回風口。

工作設備布置時要留有一定的間隔，為送、回風口的布置和氣流的通暢創(chuàng)造條件：氣流組織設計時要考慮高大設備對氣流組織的影響。

潔凈環(huán)境是為生產(chǎn)工藝服務的，潔凈室設計必須滿足生產(chǎn)工藝的環(huán)境要求，這是理所當然的。因此，在潔凈室設計時生產(chǎn)工藝對環(huán)境參數(shù)的要求應該實事求是，其面積、層高，溫度、濕度，潔凈度等應該該高則高，該低則低，并非越高越好。在不影響生產(chǎn)工藝正常運行的前提下盡可能地降低參數(shù)要求，控制凈化面積，縮小高凈化級別潔凈區(qū)的范圍，嚴格控制100級和更高級別單向流潔凈區(qū)的面積。