所以在設(shè)計(jì)瓷釉時(shí)，應(yīng)使瓷釉的熱膨脹系數(shù)盡量接近基體的熱膨脹系數(shù)，同時(shí)提高基體與瓷層間的密著力，搪瓷的密著性與瓷釉潤濕金屬的能力直接有關(guān)。瓷釉熔體及釉漿對(duì)金屬的潤濕性愈強(qiáng)，愈有利于噴涂和燒成時(shí)界面的相互吸引，加速化學(xué)反應(yīng)形成化學(xué)鍵，增強(qiáng)密著。另外瓷層通常是不均勻的，普遍含有夾雜物，這是涂搪過程的特征，由于釉漿由熔塊磨加物和搪加物等混合而成，而且終燒成受時(shí)間的限制，這就阻礙玻璃體的完全均化。一般地說，這些外加粒子和氣泡是產(chǎn)生應(yīng)力的原因，也是瓷層裂紋的先驅(qū)，即使搪瓷的強(qiáng)度降低，又會(huì)導(dǎo)致各種缺陷。

靜電穿刺

搪瓷釜內(nèi)攪拌帶有懸浮物的液體，懸浮物與搪瓷強(qiáng)烈的磨擦，同時(shí)懸浮物自身也產(chǎn)生磨擦，這樣就產(chǎn)生大量的靜電荷，高的靜電荷對(duì)搪瓷產(chǎn)生強(qiáng)烈的穿刺作用，從而導(dǎo)致搪瓷點(diǎn)蝕，因此攪拌轉(zhuǎn)速不宜太快。

析氫腐蝕

析氫腐蝕是常見的爆瓷原因，也稱之為鱗爆現(xiàn)象。引起鱗爆的因素很多，包括鋼坯的表面及內(nèi)部質(zhì)量，瓷釉的成分及均勻度，以及搪燒工藝，如脫脂硫酸濃度，酸洗時(shí)間，搪燒的溫度及時(shí)間。此外鱗爆現(xiàn)象受季節(jié)性影響十分強(qiáng)。

鱗爆的形成主要是由鋼板中氫的吸收、擴(kuò)散、聚集和溢出引起的。據(jù)國外測(cè)定，鱗爆時(shí)，由金屬基材中析出的氣態(tài)氫的壓力可高達(dá)11MPa。搪瓷設(shè)備金屬基體在燒成時(shí)，鋼材處于奧式體狀態(tài)，對(duì)氫有極大的溶解度，它可吸收在燒成過程中產(chǎn)生的大量氫。

此外，搪瓷釜的夾套在使用一段時(shí)間后會(huì)結(jié)垢和生銹，如果使用酸性除垢劑清除污垢或夾套中的冷卻液偏酸性，都會(huì)導(dǎo)致金屬發(fā)生析氫腐蝕(Fe+2HCl=FeCl2+H2O一部分H原子擴(kuò)散到金屬內(nèi)空穴，這些H由于搪瓷的致密性而不能再向外擴(kuò)散，因此當(dāng)H聚積到一定的程度，形成定的動(dòng)力時(shí)，搪瓷就會(huì)發(fā)生破裂。因此清洗結(jié)垢采用酸洗時(shí)，必須加緩沖劑，如果搪瓷釜的價(jià)值較高或者不容易更換甚至出現(xiàn)腐蝕性穿孔的話，必須采用腐蝕率低的高品質(zhì)清洗劑，避免清洗操作不當(dāng)帶來的嚴(yán)重后果。