電鍍硬鉻標準是怎樣的？

裝飾性鍍鉻0.001-0.003mm

耐磨性鍍鉻0.05-0.1mm

恢復(fù)尺寸電鍍硬鉻要根據(jù)磨損程度來確定厚度,到一定厚度后要加以研磨。

電鍍硬鉻的鉻酐的水溶液是鉻酸，是鉻鍍層的惟一來源。實踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內(nèi)變動。例如，當溫度在45～50℃，陰極電流密度l0A/dm2時，鉻酐濃度在50～500g/L范圍內(nèi)變動，甚至高達800g/L時，均可獲得光亮鍍鉻層。但這并不表示鉻酐濃度可以隨意改變，一般生產(chǎn)中采用的鉻酐濃度為l50～400g/L之間。

電流表即安培表是指示電路中電流通過大小的儀器，測量范圍小的電流表，一般可直接串聯(lián)在電路上，較大的(30安培以上)則需用一只分流器與電路串聯(lián)，電流表就接在分流器的兩端。但也有些5安培的電流表照樣需用與其匹配的分流器。

硬鉻電鍍工藝的特點

1、高陰極電流效率，可達22~30%。

2、高沉積速度，一般是傳統(tǒng)鍍鉻的2~3倍。

3、不會腐蝕陰極低電流密度區(qū)的底材。

4、鍍層硬度達HV900~1200。

5、微裂紋數(shù)達1000條/寸。

6、鍍層厚度均勻，有良好的分散能力。

7、鍍液維護容易，控制簡單。

8、無固體添加之鉻塵和濺水現(xiàn)象。

9、無陽極腐蝕，勿須使用特殊陽極