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由于在擴散過程中，即使采用背靠背擴散，硅片的所有表面包括邊緣都將不可避免地擴散上磷。PN結的正面所收集到的光生電子會沿著邊緣擴散有磷的區(qū)域流到PN結的背面，而造成短路。因此，務必對太陽能電池周邊的摻雜硅進行刻蝕，以去除電池邊緣的PN結。通常采用等離子刻蝕技術完成這一工藝。

為了制備合乎器件和集成電路制作要求的硅片表面，必須進行拋光，以除去殘留的損傷層并獲得一定厚度的高平整度的鏡面硅片。拋光分機械拋光、化學拋光、電子束拋光、離子束拋光，較普遍采用的是化學機械拋光?；瘜W機械拋光是化學腐蝕和機械磨削同時進行，分為銅離子拋光、鉻離子拋光和普遍采用的二氧化硅膠體拋光。二氧化硅膠體拋光是由極細的二氧化硅粉、氫氧化鈉（或有機堿）和水配制成膠體拋光液。在拋光過程中，氫氧化鈉與硅表面反應生成硅酸鈉，通過與二氧化硅膠體的磨削，硅酸鈉進入拋光液，兩個過程不停頓地同時進行而達到拋光的目的。根據(jù)不同要求，可用一次拋光、二次拋光(粗拋光和精拋光)或三次拋光（粗拋光、中間拋光和精拋光）。為滿足超大規(guī)模集成電路對表面質量和平整度的要求，已有無蠟拋光和無磨料拋光等新工藝。

有機硅料回收 有機硅料是指含有Si-C鍵、且至少有一個有機基是直接與硅原子相連的化合物。 硅料回收主要包括電子用消泡劑、高溫強堿型消泡劑、強酸強堿用消泡劑、高溫用消泡劑、涂料油墨用消泡劑、印花用消泡劑、印染用消泡劑、洗滌用消泡劑、水處理用消泡劑、造紙用消泡劑、復膜膠用消泡劑、通用型消泡王、食品醫(yī)藥用消泡劑、油溶性消泡劑、油墨用助劑、防粘增光滑爽劑、定向分散劑、水溶性消泡劑、流平劑、分散劑、增稠流平劑、柔軟滑爽劑、新型環(huán)保硬挺劑、汽車上光劑、防潮絕緣防污劑、紡織印染用助劑、抗靜電柔軟劑、平滑劑、硅酮密封膠、有機硅耐熱磁漆、有機硅防水劑、硅基柔軟劑、有機硅醇防水劑、高溫固化硅樹脂復合涂料、有機硅樹脂漆、有機硅疏水助劑、有機硅絕緣漆、各色有機硅耐熱磁漆、有機硅表面活性劑、硅醇、密封膠、粘合劑、有機硅平滑劑、陰離子型氨基改性硅溶液、有機硅羥乳、硅酸甲酯、硅酸乙酯、中性硅酮粘接密封劑、模具膠、六甲基二硅氨、三甲基氯硅烷氨、六甲基二硅醚、有機硅封頭劑、有機硅脫模劑、有機硅消泡劑、正硅酸乙酯。

1、 硅片回收的具體要求

其實對于無錫硅片回收來說，對他的切割也是一種加工的方法，只不過說在這個過程中對他的要求相對也是比較高的。簡單來說硅片的厚度對他的生產(chǎn)力是會產(chǎn)生影響的，當然了要是我們沒有對昆山硅片回收的精度進行控制的話，那勢必會對合格率帶來負面影響，相信大家都不希望看到這種結構吧。除此之外我們還應該要看看他的精度應該要如何控制，要是把這方面掌握好了，那對我們整體作業(yè)的幫助還是蠻大的。

2、 硅片回收作業(yè)的注意點

其實當我們在對昆山硅片回收進行切割的時候，往往我們都會用到碳化切割，那么在這個過程中我們所需要注意的問題就比較多的。當我們用碳化硅進行切割，那他起到的主導作用就不用說了，不僅如此我們還應該要看看他的硬度和圓形度是怎么樣的，總體來說這些細節(jié)對我們的作業(yè)起到的作用還是很關鍵的。要是有朋友發(fā)現(xiàn)他的切割能力下降了，那勢必對硅片的質量也會有連帶影響，對于這點還是希望大家能夠注意的。