氧化鈰拋光液 氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細、粒度分布均勻、硬度適中等特點。 適用于高精密光學(xué)儀器，光學(xué)鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。

這兩個概念主要出半導(dǎo)體加工過程中，最初的半導(dǎo)體基片（襯底片）拋光沿用機械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是極其嚴(yán)重的。直到60年代末，一種新的拋光技術(shù)——化學(xué)機械拋光技術(shù)（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。

拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，拋光液具有良好的去油污，防銹，清洗和增光性能，并能使金屬制品顯露出真實的金屬光澤。性能穩(wěn)定、，對環(huán)境無污染等優(yōu)點。

蠟乳液用于建筑業(yè) 作鋼筋混凝土固化劑?；炷猎诠袒^程中,如表面的水分蒸發(fā)過快,會使其凝固過程中一系列的化學(xué)反應(yīng)無法完成,并且無法達到其表面的抗壓強度。因此在混凝土固化期間必須防止水分蒸發(fā)過快。為此工業(yè)界開發(fā)了一種以乳化蠟為基本原料的薄膜固化劑,采用這種固化劑后避免了不必要的表面水分蒸發(fā),并且促進了水泥的水合作用。