使用方法：

1） 先將水磨石地面沙粒，灰塵，蠟質及其他涂層清除干凈，水磨石地面需翻新到2000＃以上，然后沖洗地面，吸干或刮干水分，并充分干燥地面。

2） 再將晶面劑按每平方8-15克的用量噴灑于地面，每次處理面積以1-2平方米為佳，配合專業(yè)翻新晶面機及合適的重壓，采用鋼絲墊、紅墊或納米墊將之均勻涂開，打磨至通透晶亮效果。

3） 日常保養(yǎng)，建議用PH值在5-7范圍的中性清潔劑清洗，或使用清水清洗。

晶面處理前必須先判別材質，鈣質含量及硬度，花色，應選用不同拋光墊和處理工藝。使用前將本品搖勻，操作員需要豐富的經(jīng)驗，否則難以控制藥劑快干時所發(fā)生之快速反應，令晶面效果不理想！

使用范圍：各種天然水磨石，水泥地面。

保質期：兩年。

包裝規(guī)格：1kg；5kg；25kg；50kg；

使用專業(yè)石材打磨機配合不同號數(shù)的磨片（塊）、對水磨石進行粗、細、精三道打磨，封堵微細孔，強化內部結構，然后再用高分子聚合物結合表面滲透劑在水磨石表面通過熱摩擦、使藥劑與水磨石表面產生化合反應，生成堅硬耐磨、高光亮度、防水防污，易于清潔保養(yǎng)的致密晶體保護層。同時水磨石表面產生高光亮鏡面效果。經(jīng)翻新打磨晶化后的水磨石板面光澤度、硬度、防污性能，吸水性均可與大理石媲美。

氧化鈰拋光液

氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細、粒度分布均勻、硬度適中等特點。

適用于高精密光學儀器，光學鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。