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{硅片清洗劑解析}

晶圓清洗劑廣泛用于光伏，電子等行業(yè)的晶圓清洗; 由于硅片在運(yùn)輸過(guò)程中會(huì)受到污染，表面清潔度不是很高，這對(duì)即將到來(lái)的腐蝕和蝕刻有很大的影響，因此步是在晶圓表面進(jìn)行一系列的清潔操作。 清潔的一般思路是首先去除表面的有機(jī)污染物，然后溶解氧化膜，因?yàn)檠趸飳颖弧叭旧筒东@”，這將導(dǎo)致外延缺陷; 然后去除顆粒，金屬等，同時(shí)鈍化硅晶片的表面。

{硅片清洗劑成分分析}

晶圓清洗劑由苛性鉀，緩蝕劑，絡(luò)合劑和助劑組成。 試劑級(jí)腐蝕性鉀堿為洗滌液提供皂化堿度; 緩蝕劑，絡(luò)合劑和助劑硅片清洗劑由各種表面活性劑復(fù)配而成。 提供堅(jiān)硬的表面強(qiáng)力滲透，協(xié)同成分，充分發(fā)揮各自的性能，對(duì)各種油脂，懸浮液和油性土壤進(jìn)行研磨，乳化，皂化，油污清洗率大于98％，對(duì)金屬離子有很強(qiáng)的絡(luò)合作用和 對(duì)于銅和鐵的清潔效果，剝離率為99％或更高。 它不含金屬離子，如鈣，鎂，鐵，銅和鉛。 它具有良好的環(huán)保性和高度準(zhǔn)確性。